PředmětyPředměty(verze: 945)
Předmět, akademický rok 2023/2024
   Přihlásit přes CAS
Fyzika tenkých vrstev - NEVF114
Anglický název: Physics of Thin Films
Zajišťuje: Katedra fyziky povrchů a plazmatu (32-KFPP)
Fakulta: Matematicko-fyzikální fakulta
Platnost: od 2020
Semestr: zimní
E-Kredity: 5
Rozsah, examinace: zimní s.:2/1, Z+Zk [HT]
Počet míst: neomezen
Minimální obsazenost: neomezen
4EU+: ne
Virtuální mobilita / počet míst pro virtuální mobilitu: ne
Stav předmětu: vyučován
Jazyk výuky: čeština, angličtina
Způsob výuky: prezenční
Způsob výuky: prezenční
Další informace: https://physics.mff.cuni.cz/kfpp/rozvrh.html
Garant: doc. RNDr. Pavel Sobotík, CSc.
prof. RNDr. Ivan Ošťádal, CSc.
doc. RNDr. Pavel Kocán, Ph.D.
Anotace -
Poslední úprava: T_KEVF (07.05.2005)
Interakce a migrace atomů na povrchu. Mody a fáze růstu tenkých vrstev (TV). Rovnovážná teorie nukleace TV. Kinetika versus termodynamika. Kinetické rovnice růstu TV. Vliv kinetiky na růst. Počítačové simulace růstu. Růst na atomárních terasách. Epitaxní růst. Vlastnosti tenkovrstvových struktur - elektrické, magnetické, optické a mechanické. Využití tenkých vrstev - příklady. Nízkodimenzionální struktury.
Podmínky zakončení předmětu
Poslední úprava: doc. RNDr. Jiří Pavlů, Ph.D. (03.06.2020)

Získání zápočtu je podmínkou pro konání zkoušky.

Udělení zápočtu je podmíněno absolvováním dvou praktických úloh a vypracováním protokolu k nim.

Povaha kontroly studia předmětu vylučuje opakování této kontroly, zápočet se tedy opakovat nedá.

Literatura
Poslední úprava: T_KEVF (07.05.2005)

Eckertová L.: Physics of Thin Films, Plenum Press - SNTL, New York - Praha, 1986.

Venables J. A.: Surfaces and Thin Film Processes, Cambridge Univ. Press Cambridge 2000.

Michely T., Krug. J.: Islands, Mounds and Atoms, Springer-Verlag Berlin Heidelberg 2004.

Metody výuky -
Poslední úprava: doc. RNDr. Štěpán Roučka, Ph.D. (06.10.2020)

Výuka v ZS 2020 probíhá formou on-line přednášek. Více informací viz https://physics.mff.cuni.cz/kfpp/rozvrh.html

Požadavky ke zkoušce
Poslední úprava: doc. RNDr. Pavel Sobotík, CSc. (06.10.2017)

Zkouška probíhá ústní formou.

Požadavky odpovídají sylabu předmětu v rozsahu, který byl prezentován na přednášce.

Sylabus -
Poslední úprava: T_KEVF (13.05.2005)
1. Základní procesy při depozici
Adsorpce. Pohyb atomu v periodickém potenciálu -povrchová difůze. Interakce adatomů a klastrů. Vliv schodů, poruch a příměsí.

2. Teorie nukleace a růstu tenkých vrstev
Mody a fáze růstu TV. Rovnovážná teorie nukleace. Atomistická teorie. Kinetické rovnice růstu. Simulace růstu TV. Kinetika versus termodynamika.

3. Vliv parametrů na strukturu TV
Amorfní, polykrystalické a epitaxní vrstvy. Vliv pnutí při heteroepitaxi - Stranski-Krastanov růst. Vliv kinetiky (2Dx3D růst, kritický poloměr, role schodů, Ehrlich-Schvoebelova bariéra, step-flow mód).

4. Vlastnosti TV
Elektrické vlastnosti. Mechanické vlastnosti. Magnetické a optické vlastnosti. Aplikace tenkých vrstev.

5. Nanostruktury
Fyzikální vlastnosti nízkodimenzionálních objektů. Příprava nanostruktur. Využití samoorganizujících procesů při růstu nanostruktur.

 
Univerzita Karlova | Informační systém UK