Základy přípravy a charakterizace tenkých vrstev - NBCM237

• Anglický název: Introduction to deposition and characterization of thin films
• Zajišťuje: Katedra makromolekulární fyziky (32-KMF)
• Fakulta: Matematicko-fyzikální fakulta
• Platnost: od 2020
• Semestr: letní
• E-Kredity: 4
• Rozsah, examinace: letní s.:1/2, Z+Zk [HT]
• Počet míst: neomezen
• Minimální obsazenost: neomezen
• 4EU+: ne
• Virtuální mobilita / počet míst pro virtuální mobilitu: ne
• Stav předmětu: vyučován
• Jazyk výuky: čeština, angličtina
• Způsob výuky: prezenční
• Způsob výuky: prezenční
• Garant: doc. Mgr. Jan Hanuš, Ph.D.; prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D.

Anotace

Poslední úprava: Mgr. Hana Kudrnová (26.01.2018)

V rámci předmětu se studenti seznámí se základy přípravy tenkých vrstev s využitím nízkoteplotního plazmatu a s jejich charakterizací. Po teoretickém úvodu do problematiky bude výuka probíhat přímo v laboratořích KMF, kde se studenti seznámí s prací na automatizované depoziční aparatuře umožňující přípravu tenkých vrstev kovů, oxidů kovů a plazmových polymerů. Předmět má experimentální charakter.

Literatura

čeština

Poslední úprava: prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D. (25.01.2021)

[1] H. Biederman: Plasma Polymer Films. Imperial College Press, London 2004

[2] H. Biederman, Y.Osada: Plasma Polymerisation Processes. Elsevier, Amsterdam 1992

[3] M. Vůjtek, R. Kubínek, M. Mašláň: Nanoskopie, Univ. Palackého Olomouc 2012

[4] N. Fairley: CasaXPS Manual, www.casaxps.com

Požadavky ke zkoušce

čeština

Poslední úprava: prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D. (25.01.2021)

Zkouška je ústní. Pokud budou zrušena COVID omezení, zkouška se bude konat prezenčě. Podmínkou udělení zápočtu a úspěšného složení zkoušky je systematická dochazka. Požadavky ke zkoušce odpovídají sylabu předmětu v rozsahu, který byl prezentován na přednášce.

angličtina

Poslední úprava: prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D. (25.01.2021)

The exam is oral. If the COVID restrictions are lifted, the exam will be held in person. The condition for granting credit and passing the exam is systematic attendance. The exam requirements correspond to the syllabus of the subject to the extent presented at the lecture.

Sylabus

čeština

Poslední úprava: prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D. (25.01.2021)

1) Vymezení pojmů tenká vrstva, nízkoteplotní plazma, vakuum.

2) Úvod do problematiky vakuové depozice tenkých vrstev - napařování, magnetronové naprašování, reaktivní magnetronové naprašování, plazmová polymerace.

3) Měření optických vlastností a tlouštěk tenkých vrstev - spektroskopická elipsometrie

4) Metody chemické analýzy povrchů - XPS, FTIR, EDX

5) Zkoumání morfologie povrchů - AFM, SEM

6) Měření mechanických vlastností pomocí nonoindentace

7) Měření smáčivosti a povrchové energie

angličtina

Poslední úprava: prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D. (25.01.2021)

1) Definition of terms thin layer, low-temperature plasma, vacuum

2) Introduction to the issue of vacuum deposition of thin films - evaporation, magnetron sputtering, reactive magnetron sputtering, plasma polymerization

3) Measurement of optical properties and thickness of thin films - spectroscopic ellipsometry

4) Methods of chemical analysis of surfaces - XPS, FTIR, EDX

5) Investigation of surface morphology - AFM, SEM

6) Measurement of mechanical properties using nanoindentation

7) Measurement of wettability and surface energy