PředmětyPředměty(verze: 811)
Předmět, akademický rok 2017/2018
   Přihlásit přes CAS
Aplikace nízkoteplotního plazmatu - NBCM059
Anglický název: Application of Low Temperature Plasma
Zajišťuje: Katedra makromolekulární fyziky (32-KMF)
Fakulta: Matematicko-fyzikální fakulta
Platnost: od 2001
Semestr: zimní
E-Kredity: 3
Rozsah, examinace: zimní s.:2/0 Zk [hodiny/týden]
Počet míst: neomezen
Minimální obsazenost: neomezen
Stav předmětu: vyučován
Jazyk výuky: čeština
Způsob výuky: prezenční
Garant: prof. RNDr. Hynek Biederman, DrSc.
Kategorizace předmětu: Fyzika > Biofyzika a chemická fyzika
Anotace -
Poslední úprava: ()

Základy a využití pro stejnosměrný doutnavý výboj, vysokofrekvenční a mikrovlnný výboj,procesy rozprašování povrchů a naprašování vrstev v plazmatu inertního nebo aktivního plynu, technologické aplikace pro nanášení anorganických-PECVD-a organických vrstev. Plazmová polymerace-modifikace povrchů a jejich leptání v plazmatu.
Požadavky ke zkoušce
Poslední úprava: prof. RNDr. Hynek Biederman, DrSc. (10.10.2017)

Zkouška je ústní, požadavky odpovídají sylabu předmětu v rozsahu, který byl prezentován na přednášce. Podmínkou konání zkoušky je systematická účast na přednášce.

Sylabus
Poslední úprava: prof. RNDr. Hynek Biederman, DrSc. (06.10.2017)

1. Úvod

2. Základy stejnosměrného doutnavého výboje, střídavý výboj při zvyšování frekvence brzdícího napětí (vysokofrekvenční a mikrovlnný výboj)

3. Použití stejnosměrného výboje: při aktivovaném napařování, iontovém plátování, katodovém (stejnosměrném) naprašování

4. Použití magnetického pole při stejnosměrném naprašování, magnetronový mód, planární a cylindrický magnetron

5. Vysokofrekvenční naprašování, použití planárního magnetronu

6. Nanášení vrstev organických: plasmová polymerace, základní depoziční systémy, popis depozice, modely plasmové polymerace, základní druhy vrstev a jejich vlastnosti. Nanášení vrstev anorganických (PCVD), základní vlastnosti depozičního procesu, druhy

vrstev a jejich vlastnosti

7. Leptání pomocí plasmatu, různé druhy leptání, základní plasmochemické reakce, reaktivní iontové leptání, plasmové leptání

 
Univerzita Karlova | Informační systém UK