Studium citlivosti optických reflexních metod využívajících polarizované světlo v širokém spektrálním rozsahu
| Název práce v češtině: | Studium citlivosti optických reflexních metod využívajících polarizované světlo v širokém spektrálním rozsahu |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce: | Investigation of optical reflection method sensitivity using polarized light in wide spectral range |
| Akademický rok vypsání: | 2010/2011 |
| Typ práce: | projekt |
| Jazyk práce: | |
| Ústav: | Fyzikální ústav UK (32-FUUK) |
| Vedoucí / školitel: | RNDr. Roman Antoš, Ph.D. |
| Řešitel: | skrytý - zadáno a potvrzeno stud. odd. |
| Datum přihlášení: | 08.12.2010 |
| Datum zadání: | 08.12.2010 |
| Datum proběhlé obhajoby: | 10.07.2011 |
| Konzultanti: | RNDr. Martin Veis, Ph.D. |
| Zásady pro vypracování |
| Spektroskopická elipsometrie a fotometrie jsou hojně využívané techniky pro studium planárních optických struktur, jako jsou tenké filmy, multivrstvy a texturované mřížky, které jsou sočástí zrcadel, optických filtrů, fotonických krystalů a dalších elementů integrované optiky. Přitom se ukazuje, že nejcitlivější podstatou těchto metod je odraz p-polarizovaného světla v oblasti blízké Brewsterově úhlu dopadu a v oblasti, kde je splněna podmínka pro povrchovou plazmonovou rezonanci. Proto se klade při měření důraz na takové konfigurace, které tyto oblasti zahrnují. Vedle těchto ryze optických metod se jako perspektivní doplněk ukazuje i magnetoopticá spektroskopie, která v určitých případech vykazuje ještě vyšší citlivost na p-polarizované světlo než ryze optické metody. Pomocí této metody lze s vysokou přesností určovat povrchové vlastnosti filmů, jako jsou tloušťky přirozených oxidových vrstev, nedokonalosti rozhraních vlivem depozice materiálů apod.
Náplní tohoto projektu je teoreticky i prakticky se seznámit s metodami optické a magnetooptické spektroskopie planárních struktur v odraženém světle, jakými jsou spektroskopická elipsometrie a magnetooptický Kerrův efekt. Získaná data budou interpretována jednoduchým teoretickým modelem, pomocí něhož budou analyzovány jednotlivé parametry vzorků (konkrétně tloušťky a indexy lomu vrstev) a citlivost jednotlivých experimentálních konfigurací (různé úhly dopadu apod.) na tyto parametry. |
| Seznam odborné literatury |
| R. M. A. Azzam, N. M. Bashara, Ellipsometry and Polarized Light, North-Holland, Amsterdam / New York / Oxford 1977.
Š. Višňovský, Optics in Magnetic Multilayers and Nanostructures, CRC Taylor & Francis, Boca Raton 2006. Vybraný soubor původních prací týkajících se tématu. K dispozici u vedoucího ptojektu. |