Mapování elektrického odporu a fotovodivosti semizolačního CdTe bezkontaktní metodou
| Název práce v češtině: | Mapování elektrického odporu a fotovodivosti semizolačního CdTe bezkontaktní metodou |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce: | Mapping of electrical resistivity and photoconductivity of semiinsulating CdTe by contactless method |
| Akademický rok vypsání: | 2009/2010 |
| Typ práce: | bakalářská práce |
| Jazyk práce: | čeština |
| Ústav: | Fyzikální ústav UK (32-FUUK) |
| Vedoucí / školitel: | prof. Ing. Jan Franc, DrSc. |
| Řešitel: | skrytý - zadáno a potvrzeno stud. odd. |
| Datum přihlášení: | 27.10.2009 |
| Datum zadání: | 27.10.2009 |
| Datum a čas obhajoby: | 22.06.2010 00:00 |
| Datum odevzdání elektronické podoby: | 22.06.2010 |
| Datum proběhlé obhajoby: | 22.06.2010 |
| Oponenti: | doc. RNDr. Pavel Moravec, CSc. |
| Zásady pro vypracování |
| 1. Prostudovat literaturu o bezkontaktním měření elektrického odporu
2. Seznámit se s aparaturou COREMA. 3. Doplnit zařízení COREMA oz droj světla a provést jeho kalibraci 3. Proměřit elektrický odpor a fotovodivost vzorků CdTe. 4. Vyhodnotit změřené mapy a diskutovat výsledky. 5. Zpracovat bakalářskou práci. |
| Seznam odborné literatury |
| 1.R. Stibal, J. Windscheif, W. Jantz, Contactless evaluation of semiinsulating GaAs wafer resistivity using time-dependent charge measurements, Semicond. Sci. Technol. 6, 995 (1991).
2.D.K.Schroeder, Semiconductor Material and device characterization, John Wiley and Sons, New York, 1998, p.1-55 |
| Předběžná náplň práce |
| Zájem o nechlazené detektory rentgenova záření výrazně narostl v posledních několika letech. Příčinou jsou především požadavky na aplikace detektorů v oblasti medicíny a bezpečnosti. Semiizolační CdTe je optimálním materiálem pro přípravu tohoto typu detektorůí. To je způsobeno zejména velkým atomovým číslem CdTe a tím i vysokou absorpční schopností fotonů rentgenova záření, nízkým temným proudem a dlouhou instrinsickou dobou života elektronů.
Vysoký elektrický odpor (~10^9Ohmcm) je nezbytně nutný pro snížení temného proudu v detektorech, a tím dosažení vysokého poměru signál-šum. Potřebného elektrického odporu lze dosáhnout vhodným legováním cizími příměsemi (In,Cl). Současně s vysokým elektrickým odporem je pro optimální činnost detektoru nutná nízká koncentrace defektů. Defekty v CdTe však působí jako pasti a rekombinační centra a mají tím za následek zhoršení sběru náboje. Jednou z metod charakterizace defektů je fotovodivost. Tato metoda pracující v mapovacím módu umožňuje určit rozložení defektů v závislosti na podmínkách růstu krystalů Cílem bakalářské práce je stanovit rozložení elektrického odporu a fotovodivosti ve vysokoodporovém CdTe bezkontaktní metodou v mapovacím módu a vypracovat optimální metodiku měření. |