Příprava a charakterizace epitaxních vrstev CeO2
| Název práce v češtině: | Příprava a charakterizace epitaxních vrstev CeO2 |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce: | Preparation and characterization of CeO2 epitaxial films |
| Akademický rok vypsání: | 2009/2010 |
| Typ práce: | bakalářská práce |
| Jazyk práce: | čeština |
| Ústav: | Katedra fyziky povrchů a plazmatu (32-KFPP) |
| Vedoucí / školitel: | RNDr. Kateřina Veltruská, CSc. |
| Řešitel: | skrytý - zadáno a potvrzeno stud. odd. |
| Datum přihlášení: | 17.09.2009 |
| Datum zadání: | 17.09.2009 |
| Datum a čas obhajoby: | 22.06.2010 00:00 |
| Datum odevzdání elektronické podoby: | 22.06.2010 |
| Datum proběhlé obhajoby: | 22.06.2010 |
| Oponenti: | RNDr. Michal Škoda, Ph.D. |
| Konzultanti: | prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc. |
| Zásady pro vypracování |
| 1. Studium literatury
2. Seznámení s měřící aparaturou XPS/LEED 3. Příprava vrstev CeO2 - zkoumání vlivu teploty substrátu, tlaku kyslíku, rychlosti napařování 4. Charakterizace metodami XPS, LEED, případně SEM 5. Zpracování dat |
| Seznam odborné literatury |
| 1. D. Briggs, M.P. Seah: Practical Surface Analysis, vol. 2 - Auger and X-ray Photoelectron spectroscopy, Wiley, 1990, ISBN 0-471-92081-9
2. L. Eckertová, L. Frank: Metody analýzy povrchů - elektronová mikroskopie a difrakce, Academia, Praha, 1996, ISBN 80-200-0329-0 3. F. Šutara, M. Cabala, L. Sedláček, T. Skála, M. Škoda and V. Matolín, K.C. Prince, V. Cháb, Epitaxial growth of continuous CeO2(111) ultra-thin films on Cu(111), Thin Solid Films 516 (2008) 6120 4. a další časopisecká literatura po dohodě s vedoucím práce |
| Předběžná náplň práce |
| V souvislosti se zvyšujícím se zastoupením oxidu céru v oblasti heterogenní katalýzy roste i význam studia modelových katalyzátorů, které přispívá k objasnění mechanismů probíhajících na reálných systémech. Ve skupině povrchů se podařilo připravit unikátní tenké vrstvy epitaxního CeO2 na povrchu monokrystalu Cu(111) s výslednou orientací (111), které jsou s úspěchem používány jako substráty pro studium interakce s plyny nebo dalšími katalyticky zajímavými kovy. Vzhledem k tomu, že obecně jsou tyto interakce závislé na orientaci substrátu, bylo by žádoucí doplnit již získané výsledky o studium na površích CeO2(100) a (110).
V rámci navrhované práce bude studován růst epitaxních vrstev CeO2 na površích mědi Cu(100), případně Cu(110). Vrstvy se připravují reaktivním napařováním in-situ a bude zkoumán zejména vliv parametrů přípravy na výsledné elektronové a strukturní vlastnosti vrstev. K charakterizaci se budou používat jako základní metody rentgenovská fotoelektronová spektroskopie (XPS) a elektronová difrakce (LEED), případně též úhlově rozlišené metody fotoelektronové spektroskopie (XPD, UPS) a mikroskop atomárních sil (AFM). Práce bude probíhat na UHV aparatuře vybavené komerčními spektrometry, vybraná část experimentu pak může být v případě zdařilého průběhu prováděna na spektrometru optické dráhy MSB synchrotronu Elettra v Terstu. http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/bak-abs.php?id=112 |
| Předběžná náplň práce v anglickém jazyce |
| http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/bak-abs.php?id=112 |