Tenké vrstvy deponované nízkoteplotní plazmovou tryskou
| Název práce v češtině: | Tenké vrstvy deponované nízkoteplotní plazmovou tryskou |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce: | Thin films deposited by low-temperature plasma jet |
| Klíčová slova: | nízkoteplotní plazma, atmosférická plazmová tryska, povrch |
| Klíčová slova anglicky: | low-temperature plasma, atmospheric plasma jet, surface |
| Akademický rok vypsání: | 2022/2023 |
| Typ práce: | bakalářská práce |
| Jazyk práce: | |
| Ústav: | Katedra makromolekulární fyziky (32-KMF) |
| Vedoucí / školitel: | Mgr. Jaroslav Kousal, Ph.D. |
| Řešitel: |
| Zásady pro vypracování |
| 1) Seznámit se s technikou nízkoteplotního plazmatu, plazmové polymerace a atmosférických plazmových trysek.
2) Připravit sérii tenkých vrstev z plynných prekurzorů za různých podmínek a základně je charakterizovat 4) Vypracovat práci |
| Seznam odborné literatury |
| Plasma polymer films, ed. H. Biederman, Imperial College Press, London 2004
M.Laroussi, T.Akan, Arc-Free Atmospheric Pressure Cold Plasma Jets: A Review, Plasma Processes and Polymers, Volume 4, Issue 9, pages 777–788, November 22, 2007 + další odborná literatura týkající se dané problematiky. Bude upřesněno po konzultaci s vedoucím. |
| Předběžná náplň práce |
| Velké množství aplikací nízkoteplotního plazmatu vyžaduje vakuovou techniku. Proto je věnováno čím dál více pozornosti zdrojům schopným pracovat za atmosférického tlaku. Je to často vhodný prostředek pro povrchovou aktivaci látek, potenciálně též pro aplikace v medicíně nebo dekontaminaci plynů a kapalin.
Zajímavým - a ne zdaleka vyřešeným - problémem je aplikace vysokotlakého plazmatu pro nanášení tenkých vrstev metodou plazmové polymerace. Cílem ppráce je optimalizovat podmínky pro depozici tenkých vrstev z uhlovodíkových prekurzorů (např. hexan) pomocí plazmových zdrojů, které jsou již na pracovišti k dispozici. Na vrstvách bude sledována jejich morfologie i složení. Práce má experimentální charakter. |
| Předběžná náplň práce v anglickém jazyce |
| A lot of applications of low-temperature plasma require a vacuum technology. Therefore an increasing attention is paid to plasma sources capable of operation at atmospheric pressure. They are useful for surface activation of materials and potentially for apllications in medicine or for the decontamination of gases and liquids.
Very intersting - and largely unsolved - problem is the application of high-pressure plasma for the deposition of thin films by plasma polymerization. The aim of the work is to optimize the conditions for the deposition of thin films from hydrocarbon precursors (e.g. hexane) using plasma sources that are already present at the department. The thin film will be characterized in terms of their morphology and composition. The topic is focused on experimental work. |