Charakterizace povrchu polovodičových substrátů pro optoelektronické aplikace
| Název práce v češtině: | Charakterizace povrchu polovodičových substrátů pro optoelektronické aplikace |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce: | Surface Characterization of Semiconductor Substrates for Optoelectronic Applications |
| Akademický rok vypsání: | 2007/2008 |
| Typ práce: | bakalářská práce |
| Jazyk práce: | čeština |
| Ústav: | Fyzikální ústav UK (32-FUUK) |
| Vedoucí / školitel: | doc. RNDr. Pavel Moravec, CSc. |
| Řešitel: |
| Zásady pro vypracování |
| 1. Seznámit se s procesy opracování povrchu a základními požadavky na substráty CdZnTe vhodné k přípravě epitaxních vrstev HgCdTe pro infračervenou detekci.
2. Obeznámit se s funkcí a obsluhou interferenčního profiloměru Zygo, který poskytuje detailní mapy studovaných povrchů. 3. Vyhodnotit charakteristiky povrchu substrátů připravených chemickým leštěním za různých podmínek. Porovnat vliv korekcí s ohledem na charakter vyleštěných ploch v nanometrické oblasti. 4. Získané výsledky srovnat s měřením pomocí mikroskopu atomárních sil (metoda AFM). |
| Předběžná náplň práce |
| Práce spadá do oblasti studia vlastností polovodičových materiálů s aplikačním výstupem pro optoelektroniku. Je zaměřena na přípravu kvalitních polovodičových substrátů na bázi dokonalých monokrystalů CdZnTe s velmi nízkou hrubostí povrchu. Finálním procesem při úpravě povrchu polovodičových podložek je chemické leštění. Cílem práce je charakterizace povrchu vybraných substrátů pomocí různých optických metod a stanovení jejich vhodnosti pro přípravu epitaxních vrstev. |