Diagnostika plazmatu s vysokou ionizací při PVD depozici tenkých vrstev.
| Název práce v češtině: | Diagnostika plazmatu s vysokou ionizací při PVD depozici tenkých vrstev. |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce: | Diagnosties of highly ionized plasma during PVD thin film deposition. |
| Akademický rok vypsání: | 2005/2006 |
| Typ práce: | diplomová práce |
| Jazyk práce: | čeština |
| Ústav: | Katedra fyziky povrchů a plazmatu (32-KFPP) |
| Vedoucí / školitel: | prof. RNDr. Milan Tichý, DrSc. |
| Řešitel: | skrytý - zadáno a potvrzeno stud. odd. |
| Datum přihlášení: | 03.11.2005 |
| Datum zadání: | 03.11.2005 |
| Datum a čas obhajoby: | 18.05.2007 00:00 |
| Datum odevzdání elektronické podoby: | 18.05.2007 |
| Datum proběhlé obhajoby: | 18.05.2007 |
| Oponenti: | doc. RNDr. Věra Hrachová, CSc. |
| Zásady pro vypracování |
| Zásady pro vypracování:
1. Rešerše literatury se zaměřením na sondovou a spektroskopickou diagnostiku plazmatu. 2. Seznámit se s konstrukcí a obsluhou aparatury včetně elektroniky pro sondová měření a softwarové podpory. 3. Spolupráce na vývoji a konstrukci Langmuirovy sondy s použitím nových materiálů. 4. Spolupráce na úpravě softwaru pro sběr a zpracování dat. 5. Provedení experimentů a vyhodnocení a interpretace experimentálních dat. 6. Vypracování písemné zprávy. |
| Seznam odborné literatury |
| Seznam odborné literatury:
Speciální literatura, zejména časopisecká, bude zadána po dohodě s vedoucím diplomové práce. Základní literatura: 1. F.F. Chen, Základy fyziky plazmatu. 2. J.A. Bittencourt, Fundamentals of Plasma Physics, third edition, Springer, 2004, ISBN 0-387-20975-1. 3. M.A. Liebermann, A.J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Material Processing, John Wiley and Sons, 1994, ISBN 0-471-00577-0. 4. J. Reece Roth, Industrial Plasma Engineering, volume 1 and 2, Institute of Physics Publishing, 1995, ISBN 0-7503-0318-2. 5. A. Fridman, L. Kennedy, Plasma Physics and Engineering, Taylor and Francis, 2004, ISBN 1-56032-848-7. 6. J.D. Swift, M.J.R. Schwar, Electrical Probes for Plasma Diagnostics, Iliffe books, London, (1970). 7. P.M. Chung, L. Talbot, K.J. Touryan, Electrical Probes in Stationary and Flowing Plasmas, Theory and Application, Springer-Verlag, Berlin, Heidelberg, New York, (1975). 8. S. Pfau, M. Tichý, Langmuir probe diagnostics of low-temperature plasmas, in Low Temperature Plasma Physics, R. Hippler et al. Eds., Wiley-VCH, Berlin etc., 2001, ISBN 3-527-28887-2, pp. 131-172. 9. S. Svanberg, Atomic and Molecular Spectroscopy, second edition, Springer, 1992, ISBN 0-387-55243-X. |
| Předběžná náplň práce |
| http://physics.mff.cuni.cz/kevf/php/dipl-abs.php?id=558
Nový zdroj plazmatu s vysokým stupněm ionizace určený pro PVD depozice tenkých vrstev bude testován v různých konfiguracích. Plazma s vysokou hustotou v místě substrátu bude analyzováno pomocí sondové diagnostiky a pomocí emisní spektroskopie. |