Studium heteroepitaxe kovů na povrchu Si(100)2x1 pomocí STM
Název práce v češtině: | Studium heteroepitaxe kovů na povrchu Si(100)2x1 pomocí STM |
---|---|
Název v anglickém jazyce: | STM study of metal heteroepitaxy on the Si(100)2x1 surface |
Akademický rok vypsání: | 2004/2005 |
Typ práce: | diplomová práce |
Jazyk práce: | čeština |
Ústav: | Katedra fyziky povrchů a plazmatu (32-KFPP) |
Vedoucí / školitel: | prof. RNDr. Ivan Ošťádal, CSc. |
Řešitel: | skrytý - zadáno a potvrzeno stud. odd. |
Datum přihlášení: | 12.11.2004 |
Datum zadání: | 12.11.2004 |
Datum a čas obhajoby: | 22.05.2006 00:00 |
Datum odevzdání elektronické podoby: | 22.05.2006 |
Datum proběhlé obhajoby: | 22.05.2006 |
Oponenti: | prof. RNDr. Rudolf Hrach, DrSc. |