Rtg difrakce na monokrystalické epitaxní vrstvě
| Název práce v češtině: | Rtg difrakce na monokrystalické epitaxní vrstvě |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce: | x-ray diffraction on a single-crystalline epitaxial layer |
| Akademický rok vypsání: | 2005/2006 |
| Typ práce: | bakalářská práce |
| Jazyk práce: | |
| Ústav: | Katedra fyziky kondenzovaných látek (32-KFKL) |
| Vedoucí / školitel: | prof. RNDr. Václav Holý, CSc. |
| Řešitel: |
| Předběžná náplň práce |
| Je-li rozdíl mřížkových parametrů epitaxní vrstvy a substrátu dostatečně malý, je epitaxní vrstva na substrátu elasticky deformovaná tak, aby její mřížkový parametr ve směru rovnoběžném s rozhraním se shodoval s mřížkovým parametrem substrátu (pseudomorfní struktura). Cílem práce je určení tloušťky monokrystalické epitaxní vrstvy a jejího mřížkového parametru ve směru kolmém na povrch pomocí symetrické rtg difrakce na odraz. Z difrakčních křivek naměřených v několika symetrických difrakcich se ze vzdáleností maxim od vrstvy a substrátu jednoduše stanoví relativní rozdíl vertikálních mřížkových parametrů. Pro určení tloušťky vrstvy je potřeba srovnat difrakční křivku se simulací. Pro měření se použije nový difraktometr PANalytical s vysokým rozlišením, software na simulaci difrakčních křivek je k disposici.
Zájemci se mohou dozvědět podrobnosti u V. Holého osobně nebo na e-mailové adrese:holy@karlov.mff.cuni.cz Po konzultaci se mohou tamtéž přihlásit.Práce je též vhodná pro uchazeče o magisterské studium. |