PředmětyPředměty(verze: 945)
Předmět, akademický rok 2023/2024
   Přihlásit přes CAS
Aplikovaná strukturní analýza - NFPL040
Anglický název: Applied Structure Analysis
Zajišťuje: Katedra fyziky kondenzovaných látek (32-KFKL)
Fakulta: Matematicko-fyzikální fakulta
Platnost: od 2015
Semestr: letní
E-Kredity: 3
Rozsah, examinace: letní s.:1/1, Z+Zk [HT]
Počet míst: neomezen
Minimální obsazenost: neomezen
4EU+: ne
Virtuální mobilita / počet míst pro virtuální mobilitu: ne
Stav předmětu: vyučován
Jazyk výuky: čeština, angličtina
Způsob výuky: prezenční
Způsob výuky: prezenční
Další informace: http://krystal.karlov.mff.cuni.cz/FPL040
Garant: doc. RNDr. Stanislav Daniš, Ph.D.
Kategorizace předmětu: Fyzika > Fyzika pevných látek
Anotace -
Poslední úprava: T_KFES (18.04.2014)
Přesné měření difrakčních charakteristik. "Dynamické" efekty v krystalických materiálech. Modulace uspořádání na malou a velkou vzdálenost. Experimentální metody studia usporádání na krátkou vzdálenost - EXAFS, difuzní rozptyl. Výpočetní metody v aplikované strukturní analýze, Rietveldova metoda.
Podmínky zakončení předmětu -
Poslední úprava: doc. RNDr. Stanislav Daniš, Ph.D. (10.10.2017)

Podmínkou ukončení předmětu je úspěšné absolvování zápočtová písemky a ústní zkoušky. Písemka sestává z vyřešení jedné úlohy podobné těm řešených na cvičení. Úspěšné získání zápočtu je podmíněno úspěšným vyřešením úlohy.

Literatura -
Poslední úprava: doc. RNDr. Stanislav Daniš, Ph.D. (30.04.2019)

Valvoda, V., Polcarová, M., Lukáč, P, Základy strukturní analýzy, vydavatelství Karolinum, Praha 2002

Kraus, I., Úvod do strukturní rentgenografie, Academia, Praha 1985

Pietsch, U., Holý, V., Baumbach, T., High-Resolution X-Ray Scattering: From Thin Films to Lateral Nanostructures, Springer-Verlag New York 2004

Požadavky ke zkoušce
Poslední úprava: doc. RNDr. Stanislav Daniš, Ph.D. (10.10.2017)

Závěrečná zkouška sestává jen z ústní části. Požadavky k ústní zkoušce odpovídají sylabu předmětu v rozsahu jakým byl odpřednášen. Získání zápočtu NENÍ podmínkou účasti na ústní zkoušce.

Sylabus -
Poslední úprava: T_KFES (26.05.2003)

1. Přesné měření difrakčních charakteristik.

Vliv instrumentálních efektů a mikrostrukturních charakteristik na tvar rtg difračních záznamů. Geometrické faktory, instrumentální aberace, transparence vzorku, absorpce záření, hrubost povrchu, primární a sekundární extinkce, textura.

2. "Dynamické" efekty v krystalických materiálech.

Teplotní kmity, difúze, chemické nehomogenity.

3. Modulace uspořádání na malou a velkou vzdálenost.

Difrakční obraz změn lokálního uspořádání při fázových přechodech.Difrakce na strukturách s velkou translační periodou (multivrstvy, supravodiče), vysokoúhlová difrakce, nízkoúhlová difrakce a reflexe (optická teorie, DWBA).

4. Experimentální metody studia usporádání na krátkou vzdálenost - EXAFS, difuzní rozptyl

5. Výpočetní metody v aplikované strukturní analýze.

Simulace difrakčního záznamu (LAZY PULVERIX) Zpřesňování strukturních parametrů a parametrů reálné struktury (Rietveldova metoda). Dekonvoluční metody. Výpočet parametrů ultratenkých vrstev, multivrstev a supravodičů (SUPREX).

 
Univerzita Karlova | Informační systém UK