Ultra tenké vrstvy nanášené magnetronovým naprašováním a jejich charakterizace
| Název práce v češtině: | Ultra tenké vrstvy nanášené magnetronovým naprašováním a jejich charakterizace |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce: | Ultrathin films deposited by means of magnetron sputtering and their characterization |
| Klíčová slova: | tenké vrstvy, plazmový polymer, PTFE, magnetronové naprašování, nanokompozity |
| Klíčová slova anglicky: | plasma polymer films, PTFE, magnetron sputtering, nanocomposites |
| Akademický rok vypsání: | 2012/2013 |
| Typ práce: | disertační práce |
| Jazyk práce: | čeština |
| Ústav: | Katedra makromolekulární fyziky (32-KMF) |
| Vedoucí / školitel: | doc. RNDr. Ondřej Kylián, Ph.D. |
| Řešitel: | skrytý - zadáno a potvrzeno stud. odd. |
| Datum přihlášení: | 26.09.2012 |
| Datum zadání: | 26.09.2012 |
| Datum potvrzení stud. oddělením: | 08.11.2012 |
| Datum a čas obhajoby: | 31.03.2017 09:00 |
| Datum odevzdání elektronické podoby: | 29.11.2016 |
| Datum odevzdání tištěné podoby: | 29.11.2016 |
| Datum proběhlé obhajoby: | 31.03.2017 |
| Oponenti: | doc. RNDr. Vítězslav Straňák, Ph.D. |
| prof. RNDr. Milan Tichý, DrSc. | |
| Konzultanti: | prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D. |
| Zásady pro vypracování |
| Bude upřesněno. Kontaktní e-mail: ondrej.kylian@gmail.com |
| Seznam odborné literatury |
| 1. Plasma polymer films, ed. H. Biederman, Imperial College Press London 2004.
2. Yasuda: Plasma Polymerization, Academic Press, Orlando, 1985. 3. H. Biederman and Y. Osada: Plasma Polymerisation Processes. ELSEVIER, Amsterdam, 1992. |
| Předběžná náplň práce |
| Magnetronové naprašování umožňuje depozici ultratenkých vrstev (t.j. vrstev s tloušťkou menší než 10 nm). Jak bylo prokázáno, vlastnosti takovýchto vrstev mohou být výrazně odlišné od vlastností tlustších vrstev, přičemž důležitou roli hraje materiál substrátu.
Tato disertační práce bude zaměřena na depozici ultratenkých vrstev plasmových polymerů (např. naprašovaného Nylonu či PTFE) a jejich charakterizaci, a to jak z hlediska jejich tloušťky (spektrální elipsometrie), chemické struktury (XPS, FT-IR), tak i morfologie (AFM) v závislosti na depozičních podmínkách a použitém substrátu. Charakterizace deponovaných vrstev bude částečně prováděna přímo během depozice bez vystavení vzorků okolní atmosféře. Předpokládané znalosti uchazeče na úrovni ukončeného magisterského studia fyziky. |
| Předběžná náplň práce v anglickém jazyce |
| Magnetron sputtering enables deposition of ultrathin films (i.e. films that have thickness lower than 10 nm). As demonstrated in literature, properties of such ultrathin films may differ significantly from the properties of thicker films, since substrate material may play a crucial role in this case.
This thesis is focused on the deposition of ultrathin films of plasma polymers (e.g. magnetron sputtered Nylon or PTFE) and their characterization from the point of view of their thickness (spectral ellipsometry), chemical structure (XPS, FT-IR) and morphology (AFM) in dependence on the deposition parameters and used substrates. Characterization of the films will be partly performed directly during their deposition without exposure of samples to open air. |