Preparation and Characterization of Porous Cerium Oxide/Carbon Bilayers on Silion Substrates
Příprava a charekterizace porézních dvojvrstev ceroxid/uhlík na křemíkových substrátech
dizertační práce (OBHÁJENO)
Zobrazit/ otevřít
Trvalý odkaz
http://hdl.handle.net/20.500.11956/83732Identifikátory
SIS: 107965
Kolekce
- Kvalifikační práce [10678]
Autor
Vedoucí práce
Konzultant práce
Matolín, Vladimír
Oponent práce
Jiříček, Petr
Píš, Igor
Fakulta / součást
Matematicko-fyzikální fakulta
Obor
Fyzika povrchů a rozhraní
Katedra / ústav / klinika
Katedra fyziky povrchů a plazmatu
Datum obhajoby
20. 9. 2016
Nakladatel
Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakultaJazyk
Angličtina
Známka
Prospěl/a
Klíčová slova (česky)
magnetronové naprašování, porézní ceroxid, dusíkem modifikovaný amorfní uhlík, ošetření kyslíkovým plazmatem, chemické složeníKlíčová slova (anglicky)
magnetron sputtering, porous cerium oxide, nitrogenated amorphous carbon, oxygen plasma treatment, chemical compositionPředložená doktorská práce pojednává o porézních dvojvrstvách ceroxid/uhlík na křemíku. V této souvislosti jsou zkoumány amorfní uhlíkové vrstvy (a-C) a dusíkem modifikované amorfní uhlíkové vrstvy (CNx). Je studován vliv různých parametrů při přípravě ceroxidových vrstev na morfologii finálních dvojvrstev ceroxid/uhlík. Byla nalezena korelace mezi morfologií dvojvrstvy a stechiometrií ceroxidové vrstvy prostřednictvím XPS. Dále je prezentována studie ohledně chemického složení uhlíkových vrstev pomocí různých spektroskopických metod. Bylo zjištěno, že chemické složení připravených uhlíkových vrstev silně zavisí na parametrech přípravy a ovlivnuje jejích chování při leptání v kyslíkovém plazmatu respektive při depozici ceroxidu.
This doctoral thesis concerns the preparation of porous cerium oxide/carbon bilayers on silicon substrates. In this regard, carbonaceous films in the form of amorphous carbon (a-C) and nitrogenated amorphous carbon (CNx) are considered. The influence of various process parameters of the cerium oxide deposition on the morphology of the final cerium oxide/carbon bilayer is investigated. A correlation could be found between the morphol- ogy of the bilayer and the stoichiometry of the cerium oxide film determined by means of XPS. Furthermore, a study regarding the chemical composition of the used carbonaceous films by means of various spectroscopic techniques is presented. It was found that the chemical composition of the carbonaceous films strongly depends on the deposition con- ditions of these films and influences the behaviour of these films during oxygen plasma treatment and cerium oxide deposition, respectively. 1