|
|
|
||
Poslední úprava: T_KFES (14.05.2015)
|
|
||
Poslední úprava: prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D. (10.09.2022)
V ZS22/23 přednášky a laboratorní praktikum budou vedeny prezenční formou, pokud nebudou zavedena nová vládní omezení kvůli pandemii. Zápočet je udělen za systematickou účast na přednáškách a za prokázaní získaných teoretických znalostí v praxi. Vzhledem k nutné účasti na cvičeních není možno zápočet opakovat. Závěrečná zkouška se bude konat prezenčně. |
|
||
Poslední úprava: prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D. (07.06.2019)
V. L. Mironov, Fundamentals of Scanning Probe Microscopy, The textbook for students of the senior courses of higher educational institutions, 2004, p. 97. D. Briggs, Surface analysis of polymers by XPS and static SIMS, 1998, p. 198. |
|
||
Poslední úprava: prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D. (10.09.2022)
Zkouška je ústní a bude se konat prezenčně. Pokud budou zavedena nová vládní omezení kvůli pandemii, zkouška se bude konat online přes Zoom. Požadavky ke zkoušce odpovídají sylabu předmětu v rozsahu, který byl prezentován na přednášce. |
|
||
Poslední úprava: prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D. (10.09.2022)
Základy rastrovací sondové mikroskopie. Silová interakce mezi hrotem a povrchem. Rozlišení a artefakty měření. Kontaktní, semikontaktní a nekontaktní režimy měření. Pokročilé režimy měření (lokální elektrické, viskoelastické a tribologické vlastnosti) . AFM spektroskopie. Statistická analýza povrchů. Rentgenová fotoelektronová spektroskopie. Princip metody, zdroje rentgenovského záření, elektronový analyzátor. Kvalitativní a kvantitativní analýza. Povrchová citlivost. Augerovy elektrony. Chemický posuv. Omezení metody. Metody zpracování dat, analýza pomocí programu CASA XPS. Povrchy a tenké vrstvy vs. záření v optickém oboru. Význam jednotlivých spektrálních oborů. Absopční a interferenční metody. Fourierovská spektroskopie. Odraz polarizovaného světla, princip elipsometrie. Přesnost a citlivost elipsometrie, omezení. Elipsometrická analýza opticky netriviálních struktur. |