Technology of vacuum based fabrication of thin films and nanostructures - NBCM238

• Title: Technologie vakuové přípravy vrstev a nanostruktur
• Guaranteed by: Department of Macromolecular Physics (32-KMF)
• Faculty: Faculty of Mathematics and Physics
• Actual: from 2019
• Semester: summer
• E-Credits: 5
• Hours per week, examination: summer s.:1/3, C+Ex [HT]
• Capacity: unlimited
• Min. number of students: unlimited
• 4EU+: no
• Virtual mobility / capacity: no
• State of the course: taught
• Language: Czech
• Teaching methods: full-time
• Teaching methods: full-time
• Guarantor: doc. Mgr. Jan Hanuš, Ph.D.; RNDr. Pavel Solař, Ph.D.

Annotation

Last update: Mgr. Hana Kudrnová (26.01.2018)

Studenti se po teoretickém úvodu seznámí během práce v laboratoři s obsluhou automatizované vakuové depoziční aparatury. Naučí se samostatně připravovat a charakterizovat tenké organické či anorganické vrstvy a nanočástice a seznámí se se základními metodami jejich charakterizace z hlediska fyzikálně-chemických vlastností. Značná pozornost bude věnována zejména různým metodám měření tloušťky (in-situ i ex-situ) a optických vlastností připravovaných materiálů. Předmět je zaměřen na získání praktických dovedností při práci v laboratoři tenkých vrstev.

Literature

Last update: Mgr. Hana Kudrnová (26.01.2018)

[1] H. Biederman: Plasma Polymer Films. Imperial College Press, London 2004

[2] M. Vůjtek, R. Kubínek, M. Mašláň: Nanoskopie, Univ. Palackého Olomouc 2012

[3] H. Fujiwara: Spectroscopic Ellipsometry: Principles and Applications, John Wiley & Sons, 2007.

[4] O.Kylián, A.Choukourov, H.Biederman: Nanostructured plasma polymers, Thin Solid Films

Volume 548 (2013) 1-17

[5] Y. Huttel: Gas-Phase Synthesis of Nanoparticles, Wiley-VCH, Weinheim 2017

Syllabus

Last update: Mgr. Hana Kudrnová (26.01.2018)

1) Úvod do vakuové technologie a jejího využití pro přípravu tenkých vrstev.

2) Seznámení se s pojmy napařování, magnetronové naprašování, plazmová polymerace.

3) Příprava anorganických a organických tenkých vrstev a nanočástic pomocí plynového agregačního zdroje.

4) Měření tlouštěk a optických vlastností tenkých vrstev pomocí spektroskopické elipsometrie

5) Zkoumání morfologie povrchů pomocí AFM a SEM