Analysis Methods of Surfaces and Thin Layers - NBCM233

• Title: Metody analýzy povrchů a tenkých vrstev
• Guaranteed by: Department of Macromolecular Physics (32-KMF)
• Faculty: Faculty of Mathematics and Physics
• Actual: from 2014 to 2016
• Semester: winter
• E-Credits: 5
• Hours per week, examination: winter s.:2/1, C+Ex [HT]
• Capacity: unlimited
• Min. number of students: unlimited
• 4EU+: no
• Virtual mobility / capacity: no
• State of the course: taught
• Language: Czech
• Teaching methods: full-time
• Teaching methods: full-time
• Guarantor: prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D.; doc. Mgr. Jan Hanuš, Ph.D.; Mgr. Jaroslav Kousal, Ph.D.

Annotation

English

Last update: T_KFES (14.05.2015)

Elelments of scanning probe microscopy. Resolution. Contact, semi-contact and non-contact measurement regimes. Advanced regimes of measuremen. AFM spectroscopy. Statistical analysis of surfaces.. X-ray photoelectron spectroscopy, method sources. Qualitative and quantitative analysis. Surface sensitivity. Auger electrons. Chemical shift.. Limitations of the method. Data evaluation. Surfaces and thin films vs. radiation in optical range. Significance of individual spectral ranges. Absorption and interference methd. Fourier spectroscopy. Reflection of polarized light, ellipsometry.

Czech

Last update: T_KFES (14.05.2015)

Základy rastrovací sondové mikroskopie. Rozlišení a artefakty měření. Kontaktní, semikontaktní a nekontaktní režimy měření. Pokročilé režimy měření. AFM spektroskopie. Statistická analýza povrchů. Rentgenová fotoelektronová spektroskopie Princip metody, zdroje. Kvalitativní a kvantitativní analýza. Povrchová citlivost. Augerovy elektrony. Chemický posuv. Omezení metody. Metody zpracování dat. Povrchy a tenké vrstvy vs. záření v optickém oboru. Význam jednotlivých spektrálních oborů. Absorpční, interferenční metody. Fourierovská spektroskopie. Odraz polarizovaného světla, elipsometrie.

Syllabus

Last update: prof. Ing. Andrey Shukurov, Ph.D. (07.06.2019)

Základy rastrovací sondové mikroskopie. Silová interakce mezi hrotem a povrchem. Rozlišení a artefakty měření. Kontaktní, semikontaktní a nekontaktní režimy měření. Pokročilé režimy měření (lokální elektrické, viskoelastické a tribologické vlastnosti) . AFM spektroskopie. Statistická analýza povrchů. Rentgenová fotoelektronová spektroskopie. Princip metody, zdroje rentgenovského záření, elektronový analyzátor. Kvalitativní a kvantitativní analýza. Povrchová citlivost. Augerovy elektrony. Chemický posuv. Omezení metody. Metody zpracování dat, analýza pomocí programu CASA XPS. Povrchy a tenké vrstvy vs. záření v optickém oboru. Význam jednotlivých spektrálních oborů. Absopční a interferenční metody. Fourierovská spektroskopie. Odraz polarizovaného světla, princip elipsometrie. Přesnost a citlivost elipsometrie, omezení. Elipsometrická analýza opticky netriviálních struktur.