SubjectsSubjects(version: 830)
Course, academic year 2017/2018
   Login via CAS
Application of Low Temperature Plasma - NBCM059
Title in English: Aplikace nízkoteplotního plazmatu
Guaranteed by: Department of Macromolecular Physics (32-KMF)
Faculty: Faculty of Mathematics and Physics
Actual: from 2001
Semester: winter
E-Credits: 3
Hours per week, examination: winter s.:2/0 Ex [hours/week]
Capacity: unlimited
Min. number of students: unlimited
State of the course: taught
Language: Czech
Teaching methods: full-time
Guarantor: prof. RNDr. Hynek Biederman, DrSc.
Classification: Physics > Biophysics and Chemical Physics
Annotation -
Last update: T_KMF (23.05.2001)

Basics and application of dc glow discharge, rf and microwave discharges, processes of surface sputtering, technological applications for deposition of anorganic-PECVD and organic coatings. Plasma polymerization-modification of surfaces and their etching in a plasma.
Requirements to the exam - Czech
Last update: prof. RNDr. Hynek Biederman, DrSc. (10.10.2017)

Zkouška je ústní, požadavky odpovídají sylabu předmětu v rozsahu, který byl prezentován na přednášce. Podmínkou konání zkoušky je systematická účast na přednášce.

Syllabus - Czech
Last update: prof. RNDr. Hynek Biederman, DrSc. (06.10.2017)

1. Úvod

2. Základy stejnosměrného doutnavého výboje, střídavý výboj při zvyšování frekvence brzdícího napětí (vysokofrekvenční a mikrovlnný výboj)

3. Použití stejnosměrného výboje: při aktivovaném napařování, iontovém plátování, katodovém (stejnosměrném) naprašování

4. Použití magnetického pole při stejnosměrném naprašování, magnetronový mód, planární a cylindrický magnetron

5. Vysokofrekvenční naprašování, použití planárního magnetronu

6. Nanášení vrstev organických: plasmová polymerace, základní depoziční systémy, popis depozice, modely plasmové polymerace, základní druhy vrstev a jejich vlastnosti. Nanášení vrstev anorganických (PCVD), základní vlastnosti depozičního procesu, druhy

vrstev a jejich vlastnosti

7. Leptání pomocí plasmatu, různé druhy leptání, základní plasmochemické reakce, reaktivní iontové leptání, plasmové leptání

 
Charles University | Information system of Charles University | http://www.cuni.cz/UKEN-329.html