Student/ka se seznámí s přípravou vzorků epitaxního grafénu moderními nanotechnologickými postupy. Proběhne příprava Hallovských sond litografickými metodami (optická, elektronová litografie). Student/ka se seznámí s technikami plazmového leptání, napařování a naprašování, nanášením tenkých vrstev a výrobou součástek o rozměrech v řádech desítek nanometrů. Vyrobené součástky budou charakterizovány optickými metodami Ramanovy spektroskopie, elipsometrie a měřením Hallova jevu pro určení pohyblivosti a koncentrace nosičů náboje. Práci lze dále rozšířit na magneto-transportní či magneto-optická měření kvantového Hallova jevu buď přímo v laboratořích Fyzikálního ústavu nebo ve spolupráci s pracovištěm v Grenoble High Magnetic Field Laboratory, Grenoble, Francie. OEM
References
[1] J. Jobst, D. Waldmann, F. Speck, R. Hirner, D. K. Maude, T. Seyller, H. B. Weber, Solid State Communications 151, 1061-1064 (2011)
Preliminary scope of work
Nanotechnologie jsou nedílnou součástí moderních průmyslových odvětví mikroelektroniky a fotoniky. Neustálá miniaturizace přinesla za posledních pár desítek let nevídanou revoluci v technických možnostech, které ještě nedávno nebyly myslitelné. Poslední dobou však nanotechnologie naráží na hranici miniaturizace v podobě rozměrů srovnatelných s meziatomárními vzdálenostmi. To nyní vede k postupnému zastavení miniaturizace a usilovnému hledání nových směrů vývoje. Jedním z těchto směrů je využití nových stupňů volnosti elektronů a děr v krystalech a využití nových materiálů. V rámci této práce se student/ka seznámí s přípravou nového materiálu, epitaxního grafénu, a proběhne příprava Hallovských sond moderními metodami litografie a nanocharakterizace. OEM
