Fyzikálně-chemické vlastnosti epitaxních vrstev CeOx/Cu(111)
Thesis title in Czech: | Fyzikálně-chemické vlastnosti epitaxních vrstev CeOx/Cu(111) |
---|---|
Thesis title in English: | Physically chemical properties of epitaxial films CeOx/Cu(111) |
Key words: | Cu(111), CeO2, Ce2O3, XPS, XPD |
English key words: | Cu(111), CeO2, Ce2O3, XPS, XPD |
Academic year of topic announcement: | 2012/2013 |
Thesis type: | diploma thesis |
Thesis language: | čeština |
Department: | Department of Surface and Plasma Science (32-KFPP) |
Supervisor: | RNDr. Kateřina Veltruská, CSc. |
Author: | hidden![]() |
Date of registration: | 03.01.2013 |
Date of assignment: | 03.01.2013 |
Confirmed by Study dept. on: | 18.01.2013 |
Date and time of defence: | 17.05.2013 00:00 |
Date of electronic submission: | 10.04.2013 |
Date of submission of printed version: | 10.04.2013 |
Date of proceeded defence: | 17.05.2013 |
Opponents: | RNDr. Martin Polčík, CSc. |
Advisors: | prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc. |
Guidelines |
1. Studium literatury.
2. Seznámení s měřícími aparaturami. 3. Příprava vrstev CeOx - zkoumání vlivu teploty substrátu, tlaku kyslíku, rychlosti napařování. 4. Charakterizace metodami XPS, LEED, XPD, případně UPS. 5. In-situ růst vrstev CeOx v aparatuře vybavené STM. 6. Zpracování dat. |
References |
1. D. Briggs, M.P. Seah: Practical Surface Analysis, vol. 2 - Auger and X-ray Photoelectron spectroscopy, Wiley, 1990, ISBN 0-471-92081-9.
2. C. Julian Chen, Introduction to Scanning Tunneling Microscopy (Oxford University Press, USA, 2007. 3. L. Eckertová, L. Frank: Metody analýzy povrchů - elektronová mikroskopie a difrakce, Academia, Praha, 1996, ISBN 80-200-0329-0. 4. F. Šutara, M. Cabala, L. Sedláček, T. Skála, M. Škoda and V. Matolín, K.C. Prince, V. Cháb, Thin Solid Films 516 (2008) 6120. 5. Další časopisecká literatura po dohodě s vedoucím práce. |
Preliminary scope of work |
V souvislosti se zvyšujícím se zastoupením oxidu céru v oblasti heterogenní katalýzy roste i význam studia modelových katalyzátorů, které přispívá k objasnění mechanismů probíhajících na reálných systémech. Ve skupině povrchů se podařilo připravit unikátní tenké vrstvy epitaxního CeO2 na povrchu monokrystalu Cu(111) s výslednou orientací (111), které jsou s úspěchem používány jako substráty pro studium interakce s plyny nebo dalšími katalyticky zajímavými kovy. Interakce jsou závislé na míře redukce povrchových vrstev oxidu céru, bylo by tedy žádoucí připravit epitaxní vrstvy Ce2O3 jako modelový systém.
V rámci navrhované práce bude studován růst epitaxních vrstev CeOx na povrchu mědi Cu(111) a jeho fyzikálně chemické vlastnosti. Vrstvy se připravují reaktivním napařováním in-situ. K charakterizaci se budou používat jako základní metody rentgenovská fotoelektronová spektroskopie (XPS), elektronová difrakce (LEED) a též úhlově rozlišené metody fotoelektronové spektroskopie (XPD, UPS). Důležitou součástí experimentu bude studium těchto vrstev metodou rastrovací tunelovací mikroskopie (STM). Práce bude probíhat na UHV aparaturách vybavených komerčními spektrometry, vybraná část experimentu pak může být v případě zdařilého průběhu prováděna na spektrometru optické dráhy MSB synchrotronu Elettra v Terstu. http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/dipl-abs.php?id=671 |
Preliminary scope of work in English |
http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/dipl-abs.php?id=671 |