Příprava a charakterizace epitaxních vrstev CeO2
| Thesis title in Czech: | Příprava a charakterizace epitaxních vrstev CeO2 |
|---|---|
| Thesis title in English: | Preparation and characterization of CeO2 epitaxial films |
| Academic year of topic announcement: | 2009/2010 |
| Thesis type: | Bachelor's thesis |
| Thesis language: | čeština |
| Department: | Department of Surface and Plasma Science (32-KFPP) |
| Supervisor: | RNDr. Kateřina Veltruská, CSc. |
| Author: | hidden - assigned and confirmed by the Study Dept. |
| Date of registration: | 17.09.2009 |
| Date of assignment: | 17.09.2009 |
| Date and time of defence: | 22.06.2010 00:00 |
| Date of electronic submission: | 22.06.2010 |
| Date of proceeded defence: | 22.06.2010 |
| Opponents: | RNDr. Michal Škoda, Ph.D. |
| Advisors: | prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc. |
| Guidelines |
| 1. Studium literatury
2. Seznámení s měřící aparaturou XPS/LEED 3. Příprava vrstev CeO2 - zkoumání vlivu teploty substrátu, tlaku kyslíku, rychlosti napařování 4. Charakterizace metodami XPS, LEED, případně SEM 5. Zpracování dat |
| References |
| 1. D. Briggs, M.P. Seah: Practical Surface Analysis, vol. 2 - Auger and X-ray Photoelectron spectroscopy, Wiley, 1990, ISBN 0-471-92081-9
2. L. Eckertová, L. Frank: Metody analýzy povrchů - elektronová mikroskopie a difrakce, Academia, Praha, 1996, ISBN 80-200-0329-0 3. F. Šutara, M. Cabala, L. Sedláček, T. Skála, M. Škoda and V. Matolín, K.C. Prince, V. Cháb, Epitaxial growth of continuous CeO2(111) ultra-thin films on Cu(111), Thin Solid Films 516 (2008) 6120 4. a další časopisecká literatura po dohodě s vedoucím práce |
| Preliminary scope of work |
| V souvislosti se zvyšujícím se zastoupením oxidu céru v oblasti heterogenní katalýzy roste i význam studia modelových katalyzátorů, které přispívá k objasnění mechanismů probíhajících na reálných systémech. Ve skupině povrchů se podařilo připravit unikátní tenké vrstvy epitaxního CeO2 na povrchu monokrystalu Cu(111) s výslednou orientací (111), které jsou s úspěchem používány jako substráty pro studium interakce s plyny nebo dalšími katalyticky zajímavými kovy. Vzhledem k tomu, že obecně jsou tyto interakce závislé na orientaci substrátu, bylo by žádoucí doplnit již získané výsledky o studium na površích CeO2(100) a (110).
V rámci navrhované práce bude studován růst epitaxních vrstev CeO2 na površích mědi Cu(100), případně Cu(110). Vrstvy se připravují reaktivním napařováním in-situ a bude zkoumán zejména vliv parametrů přípravy na výsledné elektronové a strukturní vlastnosti vrstev. K charakterizaci se budou používat jako základní metody rentgenovská fotoelektronová spektroskopie (XPS) a elektronová difrakce (LEED), případně též úhlově rozlišené metody fotoelektronové spektroskopie (XPD, UPS) a mikroskop atomárních sil (AFM). Práce bude probíhat na UHV aparatuře vybavené komerčními spektrometry, vybraná část experimentu pak může být v případě zdařilého průběhu prováděna na spektrometru optické dráhy MSB synchrotronu Elettra v Terstu. http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/bak-abs.php?id=112 |
| Preliminary scope of work in English |
| http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/bak-abs.php?id=112 |