Elektronová litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu
| Thesis title in Czech: | Elektronová litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu |
|---|---|
| Thesis title in English: | Electron lithography in scanning electron microscope |
| Academic year of topic announcement: | 2008/2009 |
| Thesis type: | diploma thesis |
| Thesis language: | čeština |
| Department: | Department of Surface and Plasma Science (32-KFPP) |
| Supervisor: | prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc. |
| Author: | hidden - assigned and confirmed by the Study Dept. |
| Date of registration: | 04.11.2008 |
| Date of assignment: | 04.11.2008 |
| Date and time of defence: | 17.05.2010 00:00 |
| Date of electronic submission: | 17.05.2010 |
| Date of proceeded defence: | 17.05.2010 |
| Opponents: | Ing. Filip Lopour, Ph.D. |
| Guidelines |
| 1) Bibliografická rešerše
2) Zvládnuti ovládání řádkovacího elektronového mikroskopu pro dosažený vysokého rozlišení 3) Spin coating rezistů na Si substrátech 4) Depozice funkčních vrstev |
| References |
| 1) S. Haviar, "Nanomanipulace v SEM", bakalářská práce, KFPP, MFF UK, 2008.
2) Nanotechnology in Catalysis, Springer, 2007. |
| Preliminary scope of work |
| http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/dipl-abs.php?id=618
Nanotechnologie jsou jedním z nejrychleji se rozvíjejících odvětví současné fyziky a chemie materiálů. Miniaturizace systémů pro elektronické, chemické a biologické aplikace vychází z metod optické a elektronové litografie. Elektronová litografie umožňuje běžně připravovat struktury o rozměrech od 100 nm, což je ale pro skutečné využití nanostrukturních vlastností materiálů nedostatečné. Snížení minimální velikosti objektů vyžaduje zvládnutí přípravy speciálních elektronově citlivých rezistů, např. vícevrstvových. Dále je potřeba používat přesné parametry elektronové expozice a vhodných vývojek a rozpouštědel pro odstranění vrstev "lift-off". Obsahem práce bude vyvinout metodiku přípravy rezistů typu PMMA na křemíku o různých molekulových hmotnostech a tloušťkách metodou spin coating, s cílem dosáhnout rozměrů výsledných struktur, nanodrátů a nanoteček, menších než 50 nm. V elektronovém řádkovacím mikroskopu (SEM) budou studovány procesy e-expozice v závislosti na typu rezistu a geometrickém tvaru připravovaných struktur. Materiály nanodrátů a nanoteček budou deponovány metodou vakuového napařování a naprašování. Výsledné struktury po lift-off procesu budou zkoumány v SEM z hlediska jejich geometrie a elektrické vodivosti pomocí integrovaných nanomanipulátorů. |