Thesis (Selection of subject)Thesis (Selection of subject)(version: 368)
Thesis details
   Login via CAS
Vliv snižování teploty povrchu křemíku Si(100) na morfologii růstu kovu při malém pokrytí
Thesis title in Czech: Vliv snižování teploty povrchu křemíku Si(100) na morfologii růstu kovu při malém pokrytí
Thesis title in English: Influence of decreasing surface temperature of Si(100) on metal growth morphology at low coverage
Key words: STM, Si(100), růst cínových řetízků, Sn, rozdělení délek řetízků
English key words: STM, Si(100), Sn chains growth, Sn, chain lenght distribution
Academic year of topic announcement: 2014/2015
Thesis type: Bachelor's thesis
Thesis language: čeština
Department: Department of Surface and Plasma Science (32-KFPP)
Supervisor: prof. RNDr. Ivan Ošťádal, CSc.
Author: hidden - assigned and confirmed by the Study Dept.
Date of registration: 24.10.2014
Date of assignment: 24.10.2014
Confirmed by Study dept. on: 28.11.2014
Date and time of defence: 11.09.2015 00:00
Date of electronic submission:29.07.2015
Date of submission of printed version:29.07.2015
Date of proceeded defence: 11.09.2015
Opponents: RNDr. Peter Matvija, Ph.D.
 
 
 
Advisors: doc. RNDr. Pavel Sobotík, CSc.
Guidelines
1. Seznámení se s technikou STM a metodikou experimentu s depozicí Sn (In) na Si(100).
2. Příprava vzorků s pokrytím < 0.1 ML při několika teplotách menších než pokojová a získání zobrazení morfologie pomocí STM.
3. Zpracování dat z STM a získání růstových charakteristik.
4. Diskuse výsledků s ohledem na kinetiku růstu.
References
Chen C.J., Introduction to Scanning Tunneling Microscopy, Oxford Univ. Press, Oxford 1993, 2008.
Jakub Javorský, Early stages of indium growth on the Si(100) surface, Doktorská disertační práce, MFF UK v Praze, 2011.
Další literatura a články podle doporučení vedoucího práce.
Preliminary scope of work
Teplota křemíkového substrátu při vakuové depozici ovlivňuje pohyblivost atomů a společně s depoziční rychlostí kinetiku růstu a morfologii atomárních řetízků. Studium morfologie a získání růstových charakteristik s atomárním rozlišením pomocí skenovací tunelové mikroskopie (STM) pro různé podmínky růstu umožňují rekonstruovat scénář růstu a posoudit význam předpokládaných povrchových procesů pro růst. Práce se zaměří na růst atomárních řetízků india, které bylo dosud studováno pouze při pokojové a vyšších teplotách, kdy se mohou atomy od řetízků odpojovat a roste četnost kratších řetízků. Při nízkých teplotách se četnost odpojování sníží a zároveň poklesne i pohyblivost jednotlivých atomů india po povrchu a tím i pravděpodobnost jejich záchytu a nukleace řetízků na C-defektech. Lze očekávat podstatné ovlivnění kinetiky růstu, které může vést až ke kvalitativním změnám v růstových charakteristikách.

Experimentální část práce bude prováděna na ultravakuovém sytému pro přípravu a měření vzorků při různých teplotách. Výsledky práce budou důležité pro posouzení modelu růstu navrženého na základě vyhodnocení růstu při pokojové a výšších teplotách a jeho testování pomocí kinetických Monte Carlo simulací.

http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/bak-abs.php?id=208
Preliminary scope of work in English
http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/bak-abs.php?id=208
 
Charles University | Information system of Charles University | http://www.cuni.cz/UKEN-329.html