Témata prací (Výběr práce)Témata prací (Výběr práce)(verze: 368)
Detail práce
   Přihlásit přes CAS
Elektronová litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu
Název práce v češtině: Elektronová litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu
Název v anglickém jazyce: Electron lithography in scanning electron microscope
Akademický rok vypsání: 2008/2009
Typ práce: diplomová práce
Jazyk práce: čeština
Ústav: Katedra fyziky povrchů a plazmatu (32-KFPP)
Vedoucí / školitel: prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc.
Řešitel: skrytý - zadáno a potvrzeno stud. odd.
Datum přihlášení: 04.11.2008
Datum zadání: 04.11.2008
Datum a čas obhajoby: 17.05.2010 00:00
Datum odevzdání elektronické podoby:17.05.2010
Datum proběhlé obhajoby: 17.05.2010
Oponenti: Ing. Filip Lopour, Ph.D.
 
 
 
Zásady pro vypracování
1) Bibliografická rešerše
2) Zvládnuti ovládání řádkovacího elektronového mikroskopu pro dosažený vysokého rozlišení
3) Spin coating rezistů na Si substrátech
4) Depozice funkčních vrstev
Seznam odborné literatury
1) S. Haviar, "Nanomanipulace v SEM", bakalářská práce, KFPP, MFF UK, 2008.
2) Nanotechnology in Catalysis, Springer, 2007.
Předběžná náplň práce
http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/dipl-abs.php?id=618

Nanotechnologie jsou jedním z nejrychleji se rozvíjejících odvětví současné fyziky a chemie materiálů. Miniaturizace systémů pro elektronické, chemické a biologické aplikace vychází z metod optické a elektronové litografie. Elektronová litografie umožňuje běžně připravovat struktury o rozměrech od 100 nm, což je ale pro skutečné využití nanostrukturních vlastností materiálů nedostatečné. Snížení minimální velikosti objektů vyžaduje zvládnutí přípravy speciálních elektronově citlivých rezistů, např. vícevrstvových. Dále je potřeba používat přesné parametry elektronové expozice a vhodných vývojek a rozpouštědel pro odstranění vrstev "lift-off".

Obsahem práce bude vyvinout metodiku přípravy rezistů typu PMMA na křemíku o různých molekulových hmotnostech a tloušťkách metodou spin coating, s cílem dosáhnout rozměrů výsledných struktur, nanodrátů a nanoteček, menších než 50 nm. V elektronovém řádkovacím mikroskopu (SEM) budou studovány procesy e-expozice v závislosti na typu rezistu a geometrickém tvaru připravovaných struktur. Materiály nanodrátů a nanoteček budou deponovány metodou vakuového napařování a naprašování. Výsledné struktury po lift-off procesu budou zkoumány v SEM z hlediska jejich geometrie a elektrické vodivosti pomocí integrovaných nanomanipulátorů.
 
Univerzita Karlova | Informační systém UK