Rtg difrakce na monokrystalické epitaxní vrstvě
| Název práce v češtině: | Rtg difrakce na monokrystalické epitaxní vrstvě |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce: | x-ray diffraction on a single-crystalline epitaxial layer |
| Akademický rok vypsání: | 2006/2007 |
| Typ práce: | bakalářská práce |
| Jazyk práce: | |
| Ústav: | Katedra fyziky kondenzovaných látek (32-KFKL) |
| Vedoucí / školitel: | prof. RNDr. Václav Holý, CSc. |
| Řešitel: |
| Předběžná náplň práce |
| Je-li rozdíl mřížkových parametrů epitaxní vrstvy a substrátu dostatečně malý, je epitaxní vrstva na substrátu elasticky deformovaná tak, aby její mřížkový parametr ve směru rovnoběžném s rozhraním se shodoval s mřížkovým parametrem substrátu (pseudomorfní struktura). Cílem práce je určení tloušťky monokrystalické epitaxní vrstvy a jejího mřížkového parametru ve směru kolmém na povrch pomocí symetrické rtg difrakce na odraz. Z difrakčních křivek naměřených v několika symetrických difrakcich se ze vzdáleností maxim od vrstvy a substrátu jednoduše stanoví relativní rozdíl vertikálních mřížkových parametrů. Pro určení tloušťky vrstvy je potřeba srovnat difrakční křivku se simulací. Pro měření se použije nový difraktometr PANalytical s vysokým rozlišením, software na simulaci difrakčních křivek je k disposici.
Zájemci se mohou dozvědět podrobnosti u V. Holého osobně nebo na e-mailové adrese:holy@karlov.mff.cuni.cz Po konzultaci se mohou tamtéž přihlásit.Práce je též vhodná pro uchazeče o magisterské studium. |
| Předběžná náplň práce v anglickém jazyce |
| If the mismatch between a thick substrate and an epitaxial layer deposited on it sufficiently small, the epitaxial layer is elastically deformed so that the lattice parameters of both materials in the interface direction coincide (a pseudomorph structure). The aim of the work is to determine the thickness of such a deformed layer and its lattice parameter in the direction perpendicular to the interface using a symmetrical x-ray diffraction in the reflection geometry. From the diffraction curves measured in several symmetrical diffractions it is possible to determine the vertical lattice parameter of the layer from the angular distance between the substrate and layer diffraxction maxima. For the determination of the layer thickness, a numerical fit of the measured curves with theoretical simulations is necessary. The work is mainly experimental, the measurements will be carried out on the high-resolution diffractometer PANalytical in our x-ray lab. The simulation software is available. |