Studium vlastností tenkých vrstev Sn a SnO2 připravených plazmochemickými metodami
| Název práce v češtině: | Studium vlastností tenkých vrstev Sn a SnO2 připravených plazmochemickými metodami |
|---|---|
| Název v anglickém jazyce: | Study of Sn a SnO2 thin layers prepared by plasma-chemical methods |
| Akademický rok vypsání: | 2000/2001 |
| Typ práce: | disertační práce |
| Jazyk práce: | čeština |
| Ústav: | Katedra fyziky povrchů a plazmatu (32-KFPP) |
| Vedoucí / školitel: | prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc. |
| Řešitel: | skrytý - zadáno a potvrzeno stud. odd. |
| Datum přihlášení: | 01.10.2000 |
| Datum zadání: | 01.10.2000 |
| Datum a čas obhajoby: | 27.06.2008 10:00 |
| Datum odevzdání elektronické podoby: | 27.06.2008 |
| Datum proběhlé obhajoby: | 27.06.2008 |
| Oponenti: | prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. |
| doc. Rudolf Novák, Dr., DrSc. | |