Témata prací (Výběr práce)Témata prací (Výběr práce)(verze: 368)
Detail práce
   Přihlásit přes CAS
Fyzikálně-chemické vlastnosti epitaxních vrstev CeOx/Cu(111)
Název práce v češtině: Fyzikálně-chemické vlastnosti epitaxních vrstev CeOx/Cu(111)
Název v anglickém jazyce: Physically chemical properties of epitaxial films CeOx/Cu(111)
Klíčová slova: Cu(111), CeO2, Ce2O3, XPS, XPD
Klíčová slova anglicky: Cu(111), CeO2, Ce2O3, XPS, XPD
Akademický rok vypsání: 2012/2013
Typ práce: diplomová práce
Jazyk práce: čeština
Ústav: Katedra fyziky povrchů a plazmatu (32-KFPP)
Vedoucí / školitel: RNDr. Kateřina Veltruská, CSc.
Řešitel: skrytý - zadáno a potvrzeno stud. odd.
Datum přihlášení: 03.01.2013
Datum zadání: 03.01.2013
Datum potvrzení stud. oddělením: 18.01.2013
Datum a čas obhajoby: 17.05.2013 00:00
Datum odevzdání elektronické podoby:10.04.2013
Datum odevzdání tištěné podoby:10.04.2013
Datum proběhlé obhajoby: 17.05.2013
Oponenti: RNDr. Martin Polčík, CSc.
 
 
 
Konzultanti: prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc.
Zásady pro vypracování
1. Studium literatury.
2. Seznámení s měřícími aparaturami.
3. Příprava vrstev CeOx - zkoumání vlivu teploty substrátu, tlaku kyslíku, rychlosti napařování.
4. Charakterizace metodami XPS, LEED, XPD, případně UPS.
5. In-situ růst vrstev CeOx v aparatuře vybavené STM.
6. Zpracování dat.
Seznam odborné literatury
1. D. Briggs, M.P. Seah: Practical Surface Analysis, vol. 2 - Auger and X-ray Photoelectron spectroscopy, Wiley, 1990, ISBN 0-471-92081-9.
2. C. Julian Chen, Introduction to Scanning Tunneling Microscopy (Oxford University Press, USA, 2007.
3. L. Eckertová, L. Frank: Metody analýzy povrchů - elektronová mikroskopie a difrakce, Academia, Praha, 1996, ISBN 80-200-0329-0.
4. F. Šutara, M. Cabala, L. Sedláček, T. Skála, M. Škoda and V. Matolín, K.C. Prince, V. Cháb, Thin Solid Films 516 (2008) 6120.
5. Další časopisecká literatura po dohodě s vedoucím práce.
Předběžná náplň práce
V souvislosti se zvyšujícím se zastoupením oxidu céru v oblasti heterogenní katalýzy roste i význam studia modelových katalyzátorů, které přispívá k objasnění mechanismů probíhajících na reálných systémech. Ve skupině povrchů se podařilo připravit unikátní tenké vrstvy epitaxního CeO2 na povrchu monokrystalu Cu(111) s výslednou orientací (111), které jsou s úspěchem používány jako substráty pro studium interakce s plyny nebo dalšími katalyticky zajímavými kovy. Interakce jsou závislé na míře redukce povrchových vrstev oxidu céru, bylo by tedy žádoucí připravit epitaxní vrstvy Ce2O3 jako modelový systém.

V rámci navrhované práce bude studován růst epitaxních vrstev CeOx na povrchu mědi Cu(111) a jeho fyzikálně chemické vlastnosti. Vrstvy se připravují reaktivním napařováním in-situ. K charakterizaci se budou používat jako základní metody rentgenovská fotoelektronová spektroskopie (XPS), elektronová difrakce (LEED) a též úhlově rozlišené metody fotoelektronové spektroskopie (XPD, UPS). Důležitou součástí experimentu bude studium těchto vrstev metodou rastrovací tunelovací mikroskopie (STM). Práce bude probíhat na UHV aparaturách vybavených komerčními spektrometry, vybraná část experimentu pak může být v případě zdařilého průběhu prováděna na spektrometru optické dráhy MSB synchrotronu Elettra v Terstu.

http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/dipl-abs.php?id=671
Předběžná náplň práce v anglickém jazyce
http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/dipl-abs.php?id=671
 
Univerzita Karlova | Informační systém UK